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什么是物理氣相沉積（PVD）？物理氣相沉積（Physicalvapordeposition，PVD）是一種在真空條件下采用物理方法，將固體或液體材料表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體（或等離子體）過程，在基體表面沉積具有某種特殊功能薄膜的技術(shù)。物理氣相沉積技術(shù)不僅可以沉積金屬膜、合金膜?，還可以沉積化合物?、陶瓷?、半導(dǎo)體?、聚合物膜等，是具有廣泛應(yīng)用前景的新材料制造技術(shù)。采用此技術(shù)制備的超硬薄膜不僅具有超高硬度，且超薄、耐高溫、

1.正火：將鋼材或鋼件加熱到臨界點(diǎn)Ac3或Acm以上的適當(dāng)溫度保持一定時(shí)間后在空氣中冷卻，得到珠光體類組織的熱處理工藝。2.退火：將亞共析鋼工件加熱至Ac3以上30—50℃，保溫一段時(shí)間后，隨爐緩慢冷卻（或埋在砂中或石灰中冷卻）至500℃以下在空氣中冷卻的熱處理工藝。3.固溶熱處理：將合金加熱至高溫單相區(qū)恒溫保持，使過剩相充分溶速冷卻，以得到過飽和固溶體的熱處理工藝。4.時(shí)效：合金經(jīng)固溶熱處理或冷塑性形變后，在室溫放置或稍高于室溫保持時(shí)，其性能隨時(shí)間而變化的現(xiàn)象。5.固溶處理：使合金中各種相充分

摘?要：熱噴涂技術(shù)由于具有極大優(yōu)勢(shì)而被廣泛的應(yīng)用在工程領(lǐng)域中。主要講述熱噴涂技術(shù)的研究現(xiàn)狀、發(fā)展趨勢(shì)，包括主火焰噴涂技術(shù)、等離子噴涂技術(shù)、超音速火焰噴涂技術(shù)、電弧噴涂技術(shù)、超音速電弧噴涂技術(shù)以及冷噴涂技術(shù)等，并介紹這些熱噴涂技術(shù)的研究發(fā)展與應(yīng)用。?關(guān)鍵詞：熱噴涂技術(shù)；研究進(jìn)展；超音速火焰噴涂技術(shù)；等離子噴涂技術(shù)；冷噴涂技術(shù)熱噴涂技術(shù)是一種將涂層材料(粉末或絲材)送入某種熱源(電弧、燃燒火焰、等離子體等)中熔化，并利用高速氣流將其噴射到基體材料表面形成涂層的?工藝[

大氣中，等離子焰流一離開噴嘴就從周圍吸入大量空氣。在100mm噴距時(shí)，吸入空氣量可占等離子體的90%以上。常壓等離子噴涂時(shí)，金屬粉末氧化嚴(yán)重。另外，有些有毒材料（如鈹及氧化鈹）無(wú)法在大氣中噴涂。為解決上述問題，提出了低壓等離子噴涂。真空等離子噴涂又稱低壓等離子噴涂，是在低于大氣壓的低真空的密閉空間里進(jìn)行的等離子噴涂（受控環(huán)境的噴涂技術(shù)）。受控環(huán)境的噴涂技術(shù)將我們對(duì)等離子噴涂的認(rèn)識(shí)向前推進(jìn)了一步。在噴涂室內(nèi)操作噴槍，使環(huán)境得到完全控制。這樣生產(chǎn)出來(lái)的涂層的特性是不可能在標(biāo)準(zhǔn)大氣環(huán)境下生產(chǎn)出來(lái)的。環(huán)

電爐是把爐內(nèi)的電能轉(zhuǎn)化為熱量對(duì)工件加熱的加熱爐，同燃料爐比較，電爐的優(yōu)點(diǎn)有：爐內(nèi)氣氛容易控制，甚至可抽成真空；物料加熱快，加熱溫度高，溫度容易控制。優(yōu)點(diǎn)   電爐是把爐內(nèi)的電能轉(zhuǎn)化為熱量對(duì)工件加熱的加熱爐，同燃料爐比較，電爐的優(yōu)點(diǎn)有：爐內(nèi)氣氛容易控制，甚至可抽成真空；物料加熱快，加熱溫度高，溫度容易控制；生產(chǎn)過程較易實(shí)現(xiàn)機(jī)械化和自動(dòng)化；勞動(dòng)衛(wèi)生條件好；熱效率高；產(chǎn)品質(zhì)量好；且更加環(huán)保對(duì)與日趨嚴(yán)重的環(huán)境問題是一個(gè)很好的產(chǎn)品等。冶金工業(yè)上電爐主要用于鋼鐵、鐵合金、