說明:
鉭靶被廣泛應(yīng)用于半導體、光學、磁性存儲介質(zhì)以及耐磨、耐腐蝕領(lǐng)域器件的鍍膜。
元素符號 : Ta
純度 : 99.95%
形狀 : 平面靶；旋轉(zhuǎn)靶
外觀 : 銀灰色金屬
理論密度 : 16.54g/cm3
尺寸 : 按需定做
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